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磁控溅射镀膜原理
镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可大大提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5%，单层镀膜后降至2%，而多层镀膜可降至0．2%，这样，可大大减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。
什么是光学镜头离子溅射法镀膜技术
本期将继续介绍光学镜头镀膜的另一种方法——离子溅射法。在镀膜技术中，溅射是指从固体靶材上去除颗粒，为此，在真空中的等离子体中产生高能离子，并通过外部电场在目标方向上加速。离子与目标原子碰撞并形成撞击级联。如果超过约 20eV 的最小能量，则去除目标材料。一些粒子离开目标并移向基板，并在基板沉积为薄层。
这种光学镜头镀膜工艺的使用适用于很宽的波长范围的光学，可以分为不同的类型，主要通过所使用的离子源来区分，分为等离子溅射和离子束溅射两种。
等离子溅射
等离子溅射包括多种光学镜头镀膜工艺，例如磁控管、直流和射频溅射。这些工艺的共同特点是通过气体放电回收离子，施加电压并引入惰性气体（通常是氩气）来点燃等离子体，从而释放出以高动能撞击靶材的离子，从表面溶解溅射靶材原子。
磁控溅射利用磁场迫使靶材附近的电子沿靶材表面以螺旋运动方式移动。该工艺可用于生产坚硬且耐机械的光学涂层。
直流溅射则通过施加直流电压来进行，由此靶材形成负极，基板形成带正电的电极。来自等离子体的正（氩）离子撞击目标并通过冲击级联溶解目标原子，这些冲击级联沉积在基板上。
射频溅射是一种高频交变场，可在两个方向上交替加速等离子体的（氩）离子和电子。在等离子体中，高能电子比离子更快地到达自由表面。这意味着每个表面都对等离子体带负电，因此会产生自偏压。在这种方法中，氩离子也被加速到固体靶（阴极）并敲除原子。由于不必释放正电荷，因此可以将非导电材料雾化。
离子束溅射
离子束溅射 (IBS)主要用于低反射的致密层，IBS 使用与目标和底物分离的不同离子源。重单能离子（例如 40AR）产生、聚焦并垂直射向目标，以通常 5 到 20 keV 的能量进行原子化。离子撞击靶材表面，从而触发溅射靶材原子，这些原子在基板上凝结为致密涂层。基板上可达到的薄膜厚度取决于离子流、基板与靶材之间的距离、支架与靶材表面之间的角度以及雾化时间。
与 MS 溅射相比，IBS 镀膜工艺在技术上更为复杂，因此成本更高，并且主要适用于经过挑选的、要求极高的镀膜系统。
佳能镜头维修费用标准
在镜片上。
镀膜都是镀在镜片上的。
镀膜常用在相机镜头、近视、远视、老花镜等矫正眼镜上使用。镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。目的是希望减少光的反射，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影；不同颜色的镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，镀膜尚可延迟镜片老化、变色的时间。
镜头镀膜是什么材料
镜头镀膜即通过减少光在折射界面的反射而增加光线的透过率。在复杂的光学系统中，它也可以减少系统中的散射光。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。
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